2026年6月24日，2026势银（第六届）光刻产业大会于杭州隆重召开，本届大会以“光刻生态协同发展”为主题，汇聚国内光刻材料、晶圆制造、半导体设备、科研院校等全产业链专家，围绕高端光刻胶国产化、先进制程材料创新、产业链协同配套等关键议题开展深度研讨。广州微纳光刻材料科技有限公司首席科学家邓海博士受邀参会，并作题为《100kg级光刻胶树脂制备 ArF光刻胶及亚10nm 线宽快速DSA光刻材料研发》的专题报告。

　　报告中，邓海博士系统展示公司两大核心技术研发进展。在成熟先进制程ArFi光刻胶产业化板块，公司已完成100kg级光刻胶树脂合成工艺开发，依托自研规模化树脂生产技术，联合产业链代工合作伙伴，可落地实现单批次2000L ArFi光刻胶稳定量产。规模化自研树脂能够大幅减少上游原料批次切换频次，从源头统一原材料性能指标，有效解决光刻胶生产中批次差异性难题，全面提升产品一致性与使用稳定性，适配国内多条先进制程晶圆产线批量应用需求。

　　面向下一代先进芯片制造，公司布局DSA自组装光刻前沿材料体系。依托自主研发快速DSA光刻材料，可实现8nm及以下Si光刻线条，为国内先进制程芯片制造提供全新国产化工艺材料方案，补齐国内高端先进制程光刻材料技术短板。

　　此次在行业顶级光刻产业大会上分享自研核心成果，充分展现广州微纳光刻材料在中高端光刻胶核心原料、前沿先进制程光刻材料领域深厚的技术储备与行业竞争实力。未来，公司将持续加大研发投入，加速自研树脂、ArFi光刻胶、DSA先进光刻材料产业化落地，深化产业链上下游协同合作，以自主核心技术助力我国半导体光刻产业链安全自主、高质量发展。